中科院今天宣布，國內學者研發(fā)出了一種簡單的制備低維半導體器件的方法——用“納米畫筆”勾勒未來光電子器件，它可以“畫出”各種需要的芯片。隨著技術的發(fā)展，人們對半導體技術的要求越來越高，但是半導體制造難度卻是越來越大，10nm以下的工藝極其燒錢，這就需要其他技術。 <P)vx  
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中科院表示，可預期的未來，需要在更小的面積集成更多的電子元件。針對這種需求，厚度僅有0.3至幾納米（頭發(fā)絲直徑幾萬分之一）的低維材料應運而生。 A4lh`n5%  
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