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Zemax光學(xué)設(shè)計從入門到精通	Zemax光學(xué)設(shè)計從基礎(chǔ)到實踐	成像衍射光學(xué)元件設(shè)計及應(yīng)用	現(xiàn)代光學(xué)與光子學(xué)技術(shù)
訊技光電:VirtualLab Fusion獨家供應(yīng)商	微小光學(xué)與微透鏡陣列	光學(xué)設(shè)計與光學(xué)元件	計算光學(xué)帶來的成像革命

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[原創(chuàng)]如何分析部分干涉成像系統(tǒng) （光刻機成像系統(tǒng)） [復(fù)制鏈接]

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只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2020-06-28

如何分析部分干涉成像系統(tǒng) （光刻機系統(tǒng)）

在光刻應(yīng)用中，所使用的光源不是完全相干的，如何在晶片上分析部分相干成像系統(tǒng)中的掩模?
在這里給大家分享一個案例，希望可以幫到大家。