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上海光機所在可應(yīng)用于近紅外激光的Nd:CeF3晶體方面取得新進(jìn)展

發(fā)布:cyqdesign 2020-09-09 17:24 閱讀:7049
近日,中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機械研究所微納光電子功能材料實驗室在可應(yīng)用于近紅外激光的Nd:CeF3晶體方面取得新進(jìn)展,首次揭示了該晶體的偏振吸收與發(fā)射光譜及熱學(xué)性能。相關(guān)研究成果發(fā)表于Journal of Luminescence。 (uDd_@a9t  
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當(dāng)前,近紅外波段激光在環(huán)境監(jiān)測、激光通信及醫(yī)療等領(lǐng)域具有重大應(yīng)用潛力,Nd3+離子摻雜材料由于具有豐富的躍遷譜線、較低的激光閾值及良好的商用LD泵浦源匹配性,成為了近紅外波段激光輸出的熱門選擇。然而由于Nd3+離子半徑較大,分凝系數(shù)極低,導(dǎo)致其難以在現(xiàn)有基質(zhì)中實現(xiàn)高濃度摻雜,這限制了基于Nd3+離子的近紅外激光的進(jìn)一步發(fā)展。 &s(&B>M  
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