干涉測(cè)量作為最重要的光學(xué)測(cè)量技術(shù)之一已在各領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。我們將介紹兩個(gè)示例，利用輪廓掃描干涉儀測(cè)量表面形貌和利用Fabry-Pérot標(biāo)準(zhǔn)具實(shí)現(xiàn)光譜測(cè)量。得益于非序列擴(kuò)展功能，這兩個(gè)應(yīng)用所采用的系統(tǒng)在VirtualLab中可以輕松地實(shí)現(xiàn)設(shè)置。不僅可以清晰地對(duì)其工作原理進(jìn)行描述及可視化，利用非序列場(chǎng)追跡技術(shù)更能夠快速且精確地對(duì)這類系統(tǒng)進(jìn)行分析。 38q@4U=aiw 3^Yk?kFE 輪廓掃描干涉測(cè)量?jī)x {sm={ q
利用低相干氙燈光源，邁克爾遜干涉儀可以精確掃描給定樣品的表面輪廓。 M+hc,;6 Msd!4 TrBJ INbjk;k 利用標(biāo)準(zhǔn)具檢查鈉燈D光
7-o=E = 在VirtualLab Fusion中使用非序列場(chǎng)追跡技術(shù)建模二氧化硅間隔標(biāo)準(zhǔn)具，并用將其于測(cè)量鈉D光。 Etu>z+P! t^CT^z }uHc7gTBF7
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