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摘要 zY6{ OP!#
JfS:K'
在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中，晶片檢測系統(tǒng)用于檢查晶片上的缺陷并找到它們的位置。為保證微結(jié)構(gòu)的圖像解析度，檢測系統(tǒng)常使用一個高NA的物鏡，工作在紫外波長范圍。作為一個例子，模擬了一個完整的晶片檢測系統(tǒng)，包括高NA聚焦效應(yīng)和光與微結(jié)構(gòu)的互作用，并演示了圖像的形成。 (,<&H;,8
69AgPAv<k ZWH?=Bk: 建模任務(wù) ~= qJ Sb q|,cMPS3 \lwYDPY: 結(jié)果 HH
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