援引韓媒 BusinessKorea 報道，以三星為代表的韓國企業(yè)在 EUV 光刻技術(shù)方面取得了極大進(jìn)展。根據(jù)對韓國知識產(chǎn)權(quán)局（KIPO）過去十年（2011-2020）的 EUV 相關(guān)專利統(tǒng)計，在 2014 年達(dá)到 88 項的頂峰，2018 年為 55 項，2019 年為 50 項。 RxU6.5N  
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特別需要注意的是，韓國企業(yè)在 EUV 光刻技術(shù)上一直不斷縮和國外企業(yè)之間的差距。在韓國知識產(chǎn)權(quán)局 2019 年收錄的 50 項專利中，其中 40 項是由韓國人提交的，只有 10 項是外國人提交的。這也是韓國人提交的專利首次超過外國人。到 2020 年，韓國提交的申請也將是外國人申請的兩倍以上。 GJai!$v  
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EUV 光刻技術(shù)整合到多種先進(jìn)技術(shù)，包括多層反射鏡、多層膜、防護(hù)膜、光源等等。在過去十年里，包括三星電子在內(nèi)的全球公司進(jìn)行了深入的研究和開發(fā)，以確保技術(shù)領(lǐng)先。最近，代工公司開始使用 5 納米 EUV 光刻技術(shù)來生產(chǎn)智能手機的應(yīng)用處理器（AP）。 >t7xa]G  
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