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    [分享]使用干涉儀的光學(xué)測(cè)量 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2021-02-24
    光學(xué)計(jì)量學(xué)是精確測(cè)量的重要技術(shù)。例如，它經(jīng)常被用于表面測(cè)試，因此在質(zhì)量控制中發(fā)揮著重要作用。VirtualLab Fusion可以幫助您對(duì)各種類型干涉儀進(jìn)行建模，并將不同的光學(xué)表面和系統(tǒng)部件、甚至是傾斜和位移等對(duì)準(zhǔn)錯(cuò)誤都包含在模擬中。我們以兩個(gè)廣泛使用的干涉儀--Mach-Zehnder型和Fizeau型為例進(jìn)行演示。 "v0SvV<7  
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    Mach-Zehnder干涉儀 ,DEcCHr,  
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    我們?cè)赩irtualLab Fusion中建立了一個(gè)Mach-Zehnder干涉儀，并演示了元件的傾斜和位移是如何影響干涉條紋的。 QjYw^[o  
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    用于光學(xué)檢測(cè)的Fizeau干涉儀 a:4!z;2 |  
    Y##lFEt  
    在非序列場(chǎng)追跡技術(shù)的幫助下，建立了一個(gè)Fizeau干涉儀，并顯示了幾個(gè)不同測(cè)試面的干涉條紋。 @RL'pKab9  
    bQ&%6'ck  
     C~. T[Mlu  
    QQ：2987619807 K$r)^K=s  
     
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