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摘要 mh`|=M]8E wD9a#AgEd 高NA物鏡廣泛用于光學光刻,顯微鏡等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對這種鏡頭進行光線追跡和場追跡分析非常方便。通過場追跡,可以清楚地展示不對稱焦斑,這源于矢量效應。相機探測器和電磁場探測器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性,可以讓用戶深入了解矢量效應。 Y& {|Sw7? 1(gfdx9|b _a
-]?R B@K[3 建模任務 k3hkk:W d/U."V} jPJAWXB4a 概觀 .b>TK %|IUq
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