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    [求助]反射式紋影儀系統(tǒng)的zemax模型構(gòu)建 [復(fù)制鏈接]

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    離線oy87188
     
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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2021-05-19
    回復(fù)本帖可獲得3枚光幣獎勵！
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    請教各位大佬，本人是zemax小白，最近在接觸反射式"Z"型紋影測量方法，不知道基于"Z"型反射式紋影測量的zemax模型是否有比較常規(guī)的模型可以提供？不知道哪位大佬能夠提供這方面的知識呢？ ?u{y[pI6  
    ,.6Hh'^65^  
     
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    離線arnold128
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    只看該作者 1樓 發(fā)表于: 2021-05-20
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    沒有吧，序列模式由于不是同軸系統(tǒng)，需要斷點(diǎn)傾斜這類來處理，非序列的相對于序列模式可以省去斷點(diǎn)設(shè)置，斷點(diǎn)對于初學(xué)者不太友好，需要理解zemax的坐標(biāo)設(shè)定和光線的參考變化 z)I.^  
    離線guxiaopiao
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    只看該作者 2樓 發(fā)表于: 2021-05-20
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    請問，不均勻透明介質(zhì)，即紋影的研究對象如何在Zemax中設(shè)置呢？