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摘要 Vl%jpjqP j2Uu8.8d 高數(shù)值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時考慮光的矢量性質是至關重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場追跡分析。通過場追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應引起的非對稱焦點。相機探測器和電磁場探測器可以方便地研究聚焦區(qū)域的場，也可以深入研究矢量效應。 x`VA3nE9
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nbdjk1E`~ 建模任務 H: _R[u4r io Jr2wq6  *1CZRfWI 概述 gkL{]*9&% W^N|+$g>H •案例系統(tǒng)已預先設置了高數(shù)值孔徑物鏡。 ^=7XA894 •接下來，我們演示如何按照VirtualLab中建議的工作流程在示例系統(tǒng)上執(zhí)行仿真。 c`xgz#]v a474[?
 4 $_:a?9 \2VYDBi?| 光線追跡仿真 Bd>a"3fA gMUCVKGf •首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”作為模擬引擎。 ZOY zCc(d •單擊go！ zt/N)5\V •獲得了3D光線追跡結果。 I"bz6t\~| ^2-t|E=
 `F4gal^ ^ !nt [J$.z^ 光線追跡仿真 g0>Q* x #7|73&u( •然后，選擇“光線追跡”作為模擬引擎。 feG#*m2g •單擊go！ R;`C;Rbf •結果得到點圖（二維光線追跡結果）。 Q+a "Z ^Z| -mY,nMDb
 ^s_7-p])( x f<wM]& 場追跡仿真 -SN6&-#c_ 5Sz}gP(' •切換到場追跡，然后選擇“第二代場追跡”作為模擬引擎。 =U,mzY ( •單擊go！ 55Ag<\7 'o%6TWl9s  h"t\x}8qq
+wxDK A_ 場追跡仿真（相機探測器） G*%:"qleT$ JUd Q Q •上圖僅顯示Ex和Ey場分量積分的強度。 E8"$vl&c] •下圖顯示Ex、Ey和Ez分量積分的強度：由于在高數(shù)值孔徑情況下Ez分量相對較大，因此可見明顯的不對稱性。 5Sx.'o$ 'e:(61_
 MkX=34oc^ !8OgaMngzF 場追跡仿真（電磁場探測器） ]..7t|^b& •使用電磁場探測器可獲得所有電磁場分量。 3H ,?ZFFGz Ri;_
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U6F1QLSLz 場追跡仿真（電磁場探測器） 6o<(,\ad [
aDda&RM •使用電磁場探測器可獲得所有電磁場分量。 } va>j fy 2sH1) ,\
 ]8CgHT[^7 { 3!E8~ 文件信息 6os{q`/Q]) lb\VQZp!y
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y-N]{! QQ：2987619807 h]pz12Yf
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