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請問FRED這套軟件針對一般光源側(cè)入光式的背光模塊是否可以詳細(xì)仿真光源透過LGP上面油墨印刷后的光源軌跡(整個(gè)面的光均勻度)？LGP上會印刷光學(xué)級油墨點(diǎn)(Pattern)，我們會控制Pattern直徑的大小，來控制整個(gè)背光模塊的均勻性，是否有側(cè)入光式的范例(LGP Pattern 光學(xué)仿真軌跡)？ 5~(.:R X:q
R#j -Z#/"
Ans:可以，光學(xué)仿真軟件-FRED可以進(jìn)行側(cè)入光式的背光模塊仿真分析。 ?39B(T
<~aQ_l
如下圖，并且可利用ARRAY的方法快速的布置重復(fù)式網(wǎng)點(diǎn) .Q'/e >0 Y|ON Cc cd8ZZ 8L
JTT"t@__
在FRED可以設(shè)定散射表面，而油墨本身就是一種散射表面，如下 cSdkhRAn
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uP,{yna(
光線追跡： J vi"K
j.C)KwelBS
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也可以加上BEF片的模擬 ?O1:-vpZ ]W,K}~!
F 8
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