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摘要 $]%<r?MUb- oBj>9I; 干涉測(cè)量法是光學(xué)計(jì)量學(xué)的重要技術(shù)。 它被廣泛用于例如,表面輪廓、缺陷、高精度的機(jī)械和熱變形。 作為一個(gè)典型示例,在VirtualLab Fusion中借助非序列場(chǎng)追跡,構(gòu)建了具有相干激光光源的Mach Zehnder干涉儀。 證明了光學(xué)元件的傾斜和移位如何影響干涉條紋圖案。 Xh0wWU* c. TB8Ol
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C 建模任務(wù) "zedbJ0 (Gi+7GMV' ,"N3k(g i_0,BVC 元件傾斜引起的干涉條紋 c3zT(FgO>N xMSNrOc
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~ 元件移動(dòng)引起的干涉條紋 kj{rk^x 5:l*Ib:s7
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