丹麥技術(shù)大學(xué)（DTU）與 Graphene Flagship 研究團(tuán)隊，剛剛介紹了一種可將納米材料制造工藝提升到新水平的新技術(shù)。據(jù)悉，2D 材料的精確“圖案化”，是利用其機(jī)型計算和存儲的一種方法。不過與當(dāng)前的技術(shù)相比，新方案可為 10nm 以下的納米材料，帶來更高的性能、以及更低的功耗。 kOw=c Gt  
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近年來，以石墨烯為代表的二維材料，已經(jīng)成為了物理學(xué)和材料技術(shù)領(lǐng)域的重要發(fā)現(xiàn)之一�？芍�其具有較其它已知材料更堅固、光滑、輕量，且在導(dǎo)熱與導(dǎo)電性能上也更加優(yōu)異。 Vclr)}5  
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基于此，DTU 研究人員設(shè)想，若能夠在這些材料身上實現(xiàn)可編程性，便可在 2D 層面上創(chuàng)造精致的“圖案”，進(jìn)而迎合不同的應(yīng)用需求、顯著改變相關(guān)材料的特性。 MkwU<ae AB  
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十多年來，DTU 科學(xué)家們一直在 1500 平方米的潔凈室設(shè)施中使用先進(jìn)光刻機(jī)，致力于改進(jìn)二維材料圖案化的最新技術(shù)。 9B /s  
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在丹麥國家研究基金會與 Graphene Flagship 的部分支持下，DTU 在納米結(jié)構(gòu)石墨烯中心開展了長期深入的研究。 cv}aS_`f  
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最新消息是，DTU Nanolab 的電子束光刻系統(tǒng)，已經(jīng)能夠?qū)崿F(xiàn) 10nm 的工藝精度。計算機(jī)能夠準(zhǔn)確預(yù)測石墨烯中圖案的形狀和大小，以創(chuàng)造新型電子產(chǎn)品。 R (G2qi  
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它們可以利用電子的電荷和量子特性 —— 比如自旋和谷自由度 —— 以通過低得多的功耗來開展高速計算。 "'m)VG  
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然而這些計算要求的分辨率，較現(xiàn)有最強(qiáng)的光刻系統(tǒng)所能實現(xiàn)的分辨率更高一級 —— 即原子級的解析力。 |^R*4;Phe  
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