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鎧俠開發(fā)NIL半導(dǎo)體工藝 無需EUV光刻機(jī)制程直奔5nm

發(fā)布：cyqdesign 2021-10-22 09:51 閱讀：947
在半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點之后，EUV工藝是少不了的，但是EUV光刻機(jī)價格高達(dá)10億一臺，而且產(chǎn)量有限，導(dǎo)致芯片生產(chǎn)成本很高。日本鎧俠公司現(xiàn)在聯(lián)合伙伴開發(fā)了新的工藝，可以不使用EUV光刻機(jī)，工藝直達(dá)5nm。 k