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為了控制用于 AR/MR 應(yīng)用的光導(dǎo)設(shè)備的均勻性和效率，有必要在某些區(qū)域，例如 在擴(kuò)展和輸出耦合光柵區(qū)域，引入變化的光柵參數(shù)，例如填充因子或光柵高度值。 HjV^6oP
為此，VirtualLab Fusion 能夠在一個(gè)區(qū)域內(nèi)引入平滑變化的光柵參數(shù)，其中可以以非常不同的方式配置所需的變化。 這還包括一個(gè)工具，用于研究針對特定入射條件和光柵參數(shù)提供的衍射效率。 這個(gè)例子解釋了如何應(yīng)用這些工具。 hXM C!~Th
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 b*p ,s9k7 `_<AZ{&& 2. 建模任務(wù)的說明 ;7 IVg[f
6] <?+#uQ 在光導(dǎo)上引入連續(xù)調(diào)制的光柵參數(shù)（例如，填充因子）。 v,>q]!
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 CTPn'P=\C n,AN&BZ 3. 帶有附加引導(dǎo)的常規(guī)工作流程 75^-93 E]ZM`bex& 起點(diǎn)是一個(gè)現(xiàn)有的、可執(zhí)行的光導(dǎo)系統(tǒng)，它具有基本的幾何配置（所需的距離和定位的光柵區(qū)域）和光柵規(guī)格（方向、周期、階數(shù)）。 zIdQ^vm8Q %|-Rh^H[JK
- MBK/ 需要參數(shù)調(diào)制的區(qū)域必須使用真實(shí)的光柵結(jié)構(gòu)進(jìn)行配置。 ~t#'X8.) yK}#|b'cM
KTf!Pf?g 足跡和光柵分析工具用于指定光柵參數(shù)變化的所需范圍，在光柵相互作用的指定條件下嚴(yán)格計(jì)算相應(yīng)的瑞利系數(shù)，并生成可以定義實(shí)際參數(shù)變化的光學(xué)設(shè)置 . o'H $ g% MN1|k
z Gz5|u 注意：光柵調(diào)制是為單個(gè)光柵區(qū)域定義的。 WP}_ _1!%u
6qH o$#iT 4. 打開足跡和光柵分析工具并設(shè)置光學(xué)裝置 HP?e?3.T
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 +;*])N%q PE4{;|a } 5. 足跡和光柵分析工具 Sfvi|kZX
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^zm~ ;dB=/U>3U 6. 光柵參數(shù)和相關(guān)范圍的選擇 %!eK"DKG^
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• 可以同時(shí)改變一個(gè)或兩個(gè)光柵參數(shù)。 Hq%`DWus\
• 參數(shù)空間的采樣可以相對粗略，因?yàn)殡S后將在計(jì)算點(diǎn)之間應(yīng)用插值技術(shù)。 y:W$~<E`p
• 該表列出了光柵的所有可用參數(shù)。 對于在一個(gè)區(qū)域內(nèi)引入調(diào)制光柵參數(shù)，不允許使用改變光路的參數(shù)（如周期等）。 yLY2_p- X
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#QS 5 HVk3F| ]V 7. 查找表的計(jì)算 n
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