光刻機(jī)是半導(dǎo)體行業(yè)的明珠，美國希望在這個(gè)領(lǐng)域牢牢掌握主動(dòng)權(quán)，因此對中俄等均進(jìn)行嚴(yán)格的限制和制裁，中國一直沒有最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，最近格科微引進(jìn)的先進(jìn)ArF光刻機(jī)也只是DUV的一種。而在俄烏沖突之際，昨天，美國更是對俄羅斯最大的芯片企業(yè)Mikron進(jìn)行全方位制裁。近日，有消息稱：俄羅斯將研發(fā)當(dāng)前全球最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，或許比ASML的EUV光刻機(jī)性能更先進(jìn)。請看詳情。 J"F
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據(jù)報(bào)道，俄羅斯莫斯科電子技術(shù)學(xué)院 (MIET)承接了貿(mào)工部開發(fā)制造芯片的光刻機(jī)項(xiàng)目，該項(xiàng)目由俄羅斯政府首期投資6.7億盧布資金（約合5100萬元人民幣）。研發(fā)的光刻機(jī)計(jì)劃達(dá)到EUV級別，但技術(shù)原理完全不同，是基于同步加速器和/或等離子體源”的無掩模X射線光刻機(jī)。 Pf/8tXs}  
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