-
UID:317649
-
- 注冊時間2020-06-19
- 最后登錄2025-02-06
- 在線時間1683小時
-
-
訪問TA的空間加好友用道具
|
在傳統(tǒng)的Talbot光刻中,在光敏層中僅使用一個圖像,但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個圖像。在此示例中,遵循I.-H. Lee等人的工作,通過傅立葉模態(tài)法(FMM,也稱為RCWA)在VirtualLab Fusion中對具有一層圓錐體的相位掩模進(jìn)行了建模。探測得到不同的Talbot像,柱狀圖位于主像面上,孔狀圖位于次像面上。 i(6J>^I r++i=SQax
s-VSH mi2o1"Jd$` 建模任務(wù) ~-F?Mc ~L+]n0*
C6&( c 結(jié)構(gòu)和材料參數(shù)來自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015) WIh@y2&R .]}N55M 某一位置的Talbot圖樣 -
|