我做的zemax初學(xué)手冊的例子大家看看討論一下單片的。
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{Hie% 2V 為什么做這個��？ 在surface 2欄中的thickness項(xiàng)上點(diǎn)兩下，把solve type從fixed變成Marginal Ray height，然后OK。這項(xiàng)調(diào)整會把在透鏡邊緣的光在光軸上的height為0，即paraxial focus。再次update ray fan，你可發(fā)現(xiàn)defocus已經(jīng)不見了。
l, 9r d[ SQ*%d .1 再次調(diào)整surface 1的radius項(xiàng)從fixed變成variable，依次把surface 2的radius，及放棄原先的surface 2中thickness的Marginal Ray height也變成variable。
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@yd, 
現(xiàn)在談?wù)勅绾卧O(shè)Merit function，Zemax 已經(jīng)default 一個內(nèi)建的merit function，它的功能是把RMS wavefront error 減至最低，所以先在editors中選Merit function，進(jìn)入其中的Tools，再按Default Merit Function 鍵，再按ok，即我們選用default Merit function ，這還不夠，我們還要規(guī)定給merit function 一個focal length 為100的限制，因?yàn)槿舨唤o此限制則Zemax會發(fā)現(xiàn)focal length為時(shí)，wavefront aberration的效果會最好，當(dāng)然就違反我們的設(shè)計(jì)要求。所以在Merit function editor第1列中往后插入一列，即顯示出第2列，代表surface 2，在此列中的type項(xiàng)上鍵入EFFL(effective focal length)，同列中的target項(xiàng)鍵入100，weight項(xiàng)中定為1。跳出Merit function editor，在Tools中選optimization項(xiàng)，按Automatic鍵，完畢后跳出來，此時(shí)你已完成設(shè)計(jì)最佳化。重新檢驗(yàn)ray fan，這時(shí)maximum aberration已降至200 microns。
2%v6h 我優(yōu)化完了怎么沒降到200啊。還有 為什么把這三個變成variable，而還有一個不選啊？？
gu VuO 附件是我做的圖，fans和傳遞函數(shù)圖。
