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    [技術(shù)]分析高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2022-07-05
    高數(shù)值孔徑物鏡廣泛用于光學(xué)光刻、顯微鏡等。因此，在聚焦模擬中考慮光的矢量性質(zhì)是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線和光場(chǎng)追跡分析。 通過光場(chǎng)追跡，可以清楚地展示不對(duì)稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。 照相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，并且可以深入了解矢量效應(yīng)。 tLJ 7tnB  
    0uKm)t/  
    ~H''RzN  
     ^Ip\`2^u  
    建模任務(wù) bIT[\Q  
    k&yBB%g  
     djf8FNnn  
    Wr Wz+5M8  
    入射平面波 V,ZRX}O  
    波長 2.08 nm :TrP3wV _  
    光斑直徑： 3mm 4-O.i\1q  
    沿x方向線偏振 (QFZM"G  
    ^p4`o>  
    如何進(jìn)行整個(gè)系統(tǒng)的光線追跡分析？ |x.[*'X@  
    如何計(jì)算包含矢量效應(yīng)的焦點(diǎn)的強(qiáng)度分布？ "=?JIQ  
    /_<_X 7  
    概覽 j; /@A lZl  
    •樣品系統(tǒng)預(yù)設(shè)為包含高數(shù)值孔徑物鏡。 ^N}{M$  
    •接下來，我們將演示如何按照VirtualLab中推薦的工作流程對(duì)樣本系統(tǒng)進(jìn)行模擬。 lS;S:- -F  
     3 } $9./+  
       2P57C;N8|  
    光線追跡模擬 S@\&^1;4Hv  
    •首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為模擬引擎。 :^7_E&  
    •點(diǎn)擊Go！ !G;BYr>X  
    •獲得3D光線追跡結(jié)果。 fNr*\=$  
    aS3-A 4  
     uF,%N   
       W[!bF'- 10  
    光線追跡模擬 _58&^:/^  
    •然后，選擇“光線追跡”（Ray Tracing）作為模擬引擎。 W*c^(W  
    •單擊Go！ 5;{*mJ:F  
    •結(jié)果，獲得點(diǎn)圖（2D光線追跡結(jié)果）。 R{4[.  
     qzD  
    #I yM`YB0  
     7<Ut/1$MI  
    光場(chǎng)追跡模擬 tchpO3u,  
    •切換到“第二代場(chǎng)追跡”（Field Tracing 2nd Generation）作為模擬引擎。 AxJf\B8  
    •單擊Go！ @ceL9#:uc  
    ^YPw'cZZ&  
    o,1Fzdh6(  
     tV.96P;)/9  
    光場(chǎng)追跡結(jié)果（照相機(jī)探測(cè)器） Ky7-6$  
    K!jau|FS  
    •上圖僅顯示Ex和Ey場(chǎng)分量的強(qiáng)度。 q[Y* .%~  
    •下圖通過整合Ex、Ey和Ez分量顯示強(qiáng)度：由于高數(shù)值孔徑情況下相對(duì)較大的Ez分量，可以看到明顯的不對(duì)稱性。 $>~4RXC  
    imS&N.*3m  
       [Az^i>iH  
    xI=[=;L  
    光場(chǎng)追跡結(jié)果（電磁場(chǎng)探測(cè)器） vP<8 ,XG