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    [技術(shù)]通過高NA浸沒顯微鏡進(jìn)行聚焦 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2022-09-26
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    在浸沒顯微鏡中,我們通常使用蓋玻片將浸沒液體和樣品分開。因此,PSF可能會(huì)因蓋玻片在焦平面處的界面而變形,這在設(shè)計(jì)過程中通常不能被很好地考慮。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析蓋玻片界面對(duì)PSF的影響,以完全矢量的方式演示并分析蓋玻片后面的焦點(diǎn)變形。 KsDovy<  
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    在VirtualLab Fusion中構(gòu)建系統(tǒng) DedY(JOvB  
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    幾何光學(xué)仿真  uWkn}P  
        通過光線追跡 /2x@Z>  
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    結(jié)果:光線追跡 bWg!/K55  
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    快速物理光學(xué)仿真  s-Qq#T  
        通過場(chǎng)追跡 71c(Nw~iQ  
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    在蓋玻片的最后一個(gè)界面之前聚焦 b6d}<b9#  
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    聚焦在水中蓋玻片的最后一個(gè)界面后方 M&}_3  
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    在蓋玻片的最后一個(gè)界面之前聚焦 9R99,um$  
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    聚焦在水中蓋玻片的最后一個(gè)界面后方 Wrf+5 ;,,  
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