高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術(shù)。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對此類鏡頭進行光線追跡和場追跡分析。通過場追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對稱現(xiàn)象。利用相機探測器和電磁場探測器能夠?qū)�聚焦區(qū)域進行靈活全面的研究，進而加深對矢量效應(yīng)的理解。 h<6UC%'ac  
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2. 建模任務(wù) Y[ zZw~yx  
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3. 概述 Ykqyk')wm  
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 示例系統(tǒng)包含了高數(shù)值孔徑物鏡 3Q By\1h.  
 下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執(zhí)行示例系統(tǒng)的仿真。 ;_?MX/w|&  
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4. 光線追跡仿真 Vw
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 首先，選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。 'gMfN  
 點擊“Go!”。 mpw
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 隨即獲得3D光線追跡結(jié)果 [bz T&o  
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 然后，選擇“Ray Tracing”作為仿真引擎。 點擊“Go!”。 +IFw_3$  
 隨即獲得點列圖(2D光線追跡結(jié)果)。 eU@Cr7@,|  
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5. 場追跡仿真 Z.PBu|Kx  
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 轉(zhuǎn)換到場追跡，并選擇“Field Tracing 2nd Generation”作為仿真引擎。 p=Q0!!_r  
 點擊“Go!”。 b*kfWG-6t  
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6. 場追跡結(jié)果(相機探測器) ~uWOdm-"[  
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 上圖所示為僅通過疊加Ex和Ey場分量得到的強度分布。 g=L]S-e  
 下圖所示為通過疊加Ex，Ey和Ez分量得到的強度分布：由于在高NA條件下相對較大Ez分量，導(dǎo)致聚焦光斑明顯的失對稱性。 SLL3v,P(7  
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7. 場追跡結(jié)果(電磁場探測器) d*8 $>GA  
 利用電磁場探測器，我們可以獲得多有電磁場分量的結(jié)果 df}r%