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干涉測(cè)量是一種光學(xué)計(jì)量的重要技術(shù)。 它被廣泛應(yīng)用于表面輪廓，缺陷，機(jī)械和高精度熱變形等領(lǐng)域的測(cè)量。 作為一個(gè)典型的例程，在非序列場(chǎng)追跡的幫助下，我們?cè)?span onclick="sendmsg('pw_ajax.php','action=relatetag&tagname=VirtualLab',this.id)" style="cursor:pointer;border-bottom: 1px solid #FA891B;" id="rlt_9">VirtualLab Fusion中建立了具有相干激光源的馬赫-曾德?tīng)?span onclick="sendmsg('pw_ajax.php','action=relatetag&tagname=干涉儀',this.id)" style="cursor:pointer;border-bottom: 1px solid #FA891B;" id="rlt_8">干涉儀，本案例清楚地展示了光學(xué)元件的傾斜和移位對(duì)干涉條紋圖案的影響。 O(Vi/r2:e  
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建模任務(wù) SPU_@ Pk  
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元件傾斜引起的干涉條紋  C#x9RW  
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元件移位引起的干涉條紋 ~R
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這個(gè)圖好像在哪看到過(guò)啊