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在干涉儀中，條紋的對(duì)比度可能取決于光源的相干特性。例如，在具有一定帶寬的光源的邁克爾遜干涉儀中，干涉條紋對(duì)比度隨光程差的不同而變化。通過(guò)測(cè)量可動(dòng)鏡不同位置的干涉圖對(duì)比度，可以得到光源的相干長(zhǎng)度。典型的傅里葉變換光譜通�；�于這種類型的光路。 (sngq{*%%z  
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建模任務(wù) F
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橫向干涉條紋——50 nm帶寬 l'_P]@*  
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橫向干涉條紋——100 nm帶寬 8=]R6[,fD  
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逐點(diǎn)測(cè)量 d+5KHfkK  
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VirtualLab概覽 PMDx5-{A/t  
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VirtualLab Fusion的工作流程 LuM[*_8  
• 設(shè)置入射高斯場(chǎng) rt\i@}  
- 基本光源模型 ]Zfg~K(  
• 設(shè)置元件的位置和方向 G~oGBq6Gz  
-   LPD II：位置和方向 6cCC+*V{  
• 設(shè)置元件的非序列通道 T.1*32cX  
- 用于非序列追跡的通道設(shè)置 p