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在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中，晶片檢測(cè)系統(tǒng)用于檢查晶片上的缺陷并找到它們的位置。為保證微結(jié)構(gòu)的圖像解析度，檢測(cè)系統(tǒng)常使用一個(gè)高NA的物鏡，工作在紫外波長(zhǎng)范圍。作為一個(gè)例子，模擬了一個(gè)完整的晶片檢測(cè)系統(tǒng)，包括高NA聚焦效應(yīng)和光與微結(jié)構(gòu)的互作用，并演示了圖像的形成。 dG)A-qbV
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