首先聲明一下，在這里表達(dá)的只是個(gè)人看法，并不一定有道理。 6pP:Q_U$  
關(guān)于鍍膜，大家都追求的是鍍膜的連續(xù)性和穩(wěn)定性。 duQ,6  
甚至為了穩(wěn)定性，一些鍍膜機(jī)廠家寧可犧牲性能。 )[wB:kG  
比如說(shuō)鍍膜過(guò)程中使用APC充氧： fQQj2>3w  
很多人認(rèn)為APC充氧只是為了給類似于TiO2這些易失氧膜料進(jìn)行補(bǔ)氧。 QlE]OAdB42  
其實(shí)不然。使用離子源的情況下，氧其實(shí)是足夠的。 ^m Ua5w  
APC充氧還有一個(gè)重要的目的，維持鍍膜環(huán)境的穩(wěn)定性。 /L{V3}[j  
APC是自動(dòng)壓力控制的英文縮寫，它能起到穩(wěn)定真空腔體真空度的作用。 Ua%;hI)j$  
pF/s5z  
在真空中，有個(gè)平均自由程的概念，一個(gè)粒子平均運(yùn)動(dòng)多遠(yuǎn)才能和其他粒子碰撞。 QZ& 4W  
真空度越高，平均自由程越長(zhǎng)，電子槍和離子源發(fā)出來(lái)原子或者離子就會(huì)更多的到達(dá)基板表面。 cS#
yfN,  
但是隨著腔體的逐漸變臟，鍍膜時(shí)候的真空度會(huì)變差，到達(dá)基板的原子和離子就會(huì)變少。 X{Ij30Bmv  
一般會(huì)表現(xiàn)為外圈和內(nèi)圈的分布變化，還有折射率的變化。 V!\'7-[
R  
為了讓分布和折射率穩(wěn)定，在鍍膜過(guò)程中使用APC是個(gè)解決的辦法。 ;"B@QPX