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即將模擬一個(gè)具有隨機(jī)粗糙表面的正弦光柵。此模擬是通過(guò)使用VirtualLab中的一般二維光柵(General Grating 2D)元件堆棧中的可編程光學(xué)界面來(lái)完成的。 nBItO~l 'gso'&Uaj 關(guān)鍵詞:光柵,光柵工具箱,粗糙表面,可編程光學(xué)界面,光柵元件 Q.U$nph\%d @b#^ - 要求工具箱:光柵工具箱 ZD>a>] s{bdl[7 相關(guān)應(yīng)用案例:案例090.01,案例246.01 %A/_5;PZ/ x_#-tB 一、模擬任務(wù): [
ho(z30k 二、光柵的描述 1O/
g&u >rsqH+oL 1. 原始表面輪廓是一個(gè)平滑的正弦曲線輪廓,其周期為5μm,調(diào)制深度為468nm(使得最內(nèi)側(cè)三個(gè)級(jí)次的效率相同)。 MrRaU x6z R&f^+0%f 2. 該正弦曲線輪廓疊加入一個(gè)隨機(jī)的變化,由VirtualLabTM中的可編程光學(xué)界面來(lái)模擬。 9W ^xlid6 'x"08v$ 3. 用于模擬粗糙度的該代碼片段有兩個(gè)物理參數(shù):最小特征尺寸(Smallest Feature Size)和總高度調(diào)制(Total Height Modulation)。使用種子(Seed)變量可以確定任意數(shù)目的生成器以獲得一個(gè)可再生的結(jié)果。 (la[KqqCO ;)AfB#:d 4. 變量“最小特征尺寸(Smallest Feature Size)” ZraT3 LwcIGhy 下面將展示所得高度輪廓以及所得效率的圖,其“總的高度調(diào)制(Total Height Modulation)”為50 nm,“最小特征尺寸(Smallest Feature Size)”為不同的值。 5N[9
vW e4>"92hX 1) “最小特征尺寸(Smallest Feature Size)”為0 p>v
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