ZZ.GpB. 建模目的:如何將矩形
光柵界面和轉(zhuǎn)變點列界面(Transition Point List Inerface)進行組合,以構(gòu)建復雜
結(jié)構(gòu)光柵,并進行近場分析和內(nèi)部場分析
*edB3!! 工具箱:光柵工具箱
}z}oVc 關(guān)鍵詞:矩形光柵界面 轉(zhuǎn)變點列界面 近場分析 內(nèi)部場分析
Uc.K6%iI 組合光柵結(jié)構(gòu)
參數(shù):
圖1:光柵參數(shù)示意圖 F;kNc:X`)
Nx~8]h1( 使用VirtualLab光柵工具箱進行建模
YI|7a#*F (R{WJjj 1) 操作如下圖(1)(2):解決方案(Solutions)/光柵工具箱(Grating Toolbox)/二維光柵
仿真(2D Grating Simulations)/自定義光柵光路流程圖(General Grating Light Path Diagram),生成光柵光路圖, 如下圖(3)
(1)
XJ.vj+XXb
(2)
$P>ci4]t (3) ?,]25q
圖2:使用VirtualLab光柵工具箱進行建模步驟1)示意圖 JBp^@j{_
5MT$n4zKu 2) 雙擊
![](http://www.infotek.com.cn/uploads/allimg/150831/1-150S1114409545.png)
,進入光柵編輯窗口(Edit General Grating 2D)/結(jié)構(gòu)與功能子窗口(Structure/Function),確定基板
材料和厚度,并選擇堆棧界面。
(,[Oy6o 圖3:使用VirtualLab光柵工具箱進行建模步驟2)示意圖
'RXhE
MC^H N w 3) 進入堆棧界面,即堆棧編輯窗口(Edit),通過添加(Add)按鈕依次添加平面(Plane Interface),矩形光柵界面(Rectarngular Grating Interface)以及轉(zhuǎn)變點列界面(Transition Point List Interface)以構(gòu)建矩形組合光柵。
fs\l*nBig (1)
,'[0tl}8K ![](http://www.infotek.com.cn/uploads/allimg/150831/1-150S1114555518.png)
(2) -|T.APxB
(3)
圖4:使用VirtualLab光柵工具箱進行建模步驟3)示意圖 (z\@T`6`
tAefBFu 4) 點擊
![](http://www.infotek.com.cn/uploads/allimg/150831/1-150S1114P5317.png)
,進入矩形光柵編輯窗口(Edit Rectangular Grating Interface),輸入光柵一的結(jié)構(gòu)參數(shù),并將其位置橫向移動(Lateral Shift)1 µm,如下圖所示
Pr9$(6MX 圖5:使用VirtualLab光柵工具箱進行建模步驟4)示意圖 6Wl+5
a6V
`|[Q]+Mx 5) 點擊
![](http://www.infotek.com.cn/uploads/allimg/150831/1-150S1114T0956.png)
,進入轉(zhuǎn)變點列界面(Transition Point List Interface)編輯窗口(Edit Transition Point List Interface),輸入光柵二和光柵三兩種光柵結(jié)構(gòu)參數(shù):
Ng2qu!F7 VD,g (1) 通過點擊添加數(shù)據(jù)(Add Datum)增加轉(zhuǎn)變點(transition points),并給該點對應的橫向位置(x-Position)和高度(Height)賦值,以形成所需轉(zhuǎn)變點序列。
(i1]+. YRqIC -_ (2) 按照圖6(2)所示設(shè)置所有轉(zhuǎn)變點,然后將插值方法(Interpolation Method)設(shè)置為常量區(qū)間(Constant Interval)。將橫向區(qū)域上限(Upper Limit)設(shè)置為2 µm,并設(shè)置大小與形狀(Size and Shape) 為2 µm x 2µm 長方形(Rectangular)。
ckS.j)@.c K08xiMjl (3) 進入周期化標簽(Periodization),選擇使用周期化設(shè)置(Use Periodization),并將周期設(shè)置為2 µm x 2µm?捎^察到z-方向,即高度方向最小值(Boundary Minimum)為-800 nm。
rUR{MF&]D (1)
oIN!3 -r7*C:E ![](http://www.infotek.com.cn/uploads/allimg/150831/1-150S111495V20.png)
(2)
(3)
圖6:使用VirtualLab光柵工具箱進行建模步驟5)示意圖 #3leMZ6
QOB>TvE 6) 將平面與矩形光柵界面距離設(shè)置為0,矩形光柵界面(光柵一)與轉(zhuǎn)變點列界面(光柵二和三)之間的距離設(shè)置為800 nm,并將堆棧周期(Stack Period)設(shè)置為2 µm,如下圖所示:
1ve
%xF 圖7:使用VirtualLab光柵工具箱進行建模步驟6)示意圖 z1K@AaRx
1TJ2HO=Y 7) 設(shè)置
光學界面后的介質(zhì)類型(Subsequent Medium),點擊
![](http://www.infotek.com.cn/uploads/allimg/150831/1-150S1115220338.png)
,進入材料庫,分別將Cr和TiO2介質(zhì)分別用于矩形光柵界面(光柵一)和轉(zhuǎn)變點列光柵界面(光柵二和光柵三)之后,設(shè)置方法如下圖。
$C#G8Ck, (1)
_SY4Qs`d ![](http://www.infotek.com.cn/uploads/allimg/150831/1-150S111531G43.png)
(2)
圖8:使用VirtualLab光柵工具箱進行建模步驟7)示意圖
k?ZtRhPu3X mr&nB 8) 在堆棧界面觀察組合光柵的剖面圖以及點擊
![](http://www.infotek.com.cn/uploads/allimg/150831/1-150S11154249E.png)
觀察其3D視圖
},lHa!<^ (1)組合光柵剖面圖
LB1LQ0M ![](http://www.infotek.com.cn/uploads/allimg/150831/1-150S1115523c6.png)
(2)組合光柵3D視圖
圖9:使用VirtualLab光柵工具箱進行建模步驟8)示意圖
D6fry\ 4) 使用光柵工具箱中的元件內(nèi)部場分析器可以獲得光柵內(nèi)部場的分布。
J'jwRn 9) 傳輸子窗口(Propagation)/傳輸方法標簽(Propagation Methods)中選擇傅里葉模態(tài)法(Fourier Modal Method)作為元件傳輸方法(Component Propagation),光柵工具箱默認的傳輸方法是傅里葉模態(tài)法(FMM),對于特征尺寸遠大于波長的光柵,可以選擇薄元近似(TEA)。 Gm~jC < F
jsnFX; 圖10:使用VirtualLab光柵工具箱進行建模步驟9)示意圖 MOi.bHCQJP
10) 高級設(shè)置標簽(Advanced Settings),單擊
,進行如圖11(1)-(3)設(shè)置,并觀察折射率分布如圖(4):可以看出組合光柵的形狀及折射率分布。 d0vn/k2I
z|E/pm$^ (1)
t"4RGO)jh ![](http://www.infotek.com.cn/uploads/allimg/150831/1-150S1115UO93.png)
(2)
78T9"CS ![](http://www.infotek.com.cn/uploads/allimg/150831/1-150S11159311F.png)
(3)
FxeDjAP ![](http://www.infotek.com.cn/uploads/allimg/150831/1-150S111595K23.png)
(4)
圖11:使用VirtualLab光柵工具箱進行建模步驟10)示意圖
I?r7dQEm 11) 進行近場分析: noJ5h|
QQ;<L"VW (1)
bis}zv^%v (2)透射場振幅分布 (3)反射場振幅分布
圖12:使用VirtualLab光柵工具箱進行建模步驟11)示意圖 >>22:JI`
12) 雙擊
,進入光柵衍射效率分析器編輯窗口(Edit Grating Efficiency Analyzer),并做如下圖設(shè)置。 5n{J}0C
B)>r~v] 圖13:使用VirtualLab光柵工具箱進行建模步驟12)示意圖
++1<A&a 13) 點擊
,進行光柵衍射效率分析,獲取各級次的效率以及總的效率,如下圖:(1)極坐標表示形式;(2)不同級次所對應的角度與衍射效率圖;(3)總的反射、透射效率以及吸收率。 RvrZtg5
u_ou,RF O<}3\O )G( (1)
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(2)
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(3)
圖14:使用VirtualLab光柵工具箱進行建模步驟13)示意圖 A@M%}h
14) 在光路流程圖(Light Path Diagram)中添加元件內(nèi)部場分析器(Field Inside Component Analyzer: FMM)進行內(nèi)部場分析:參數(shù)設(shè)置如圖15(1)(2),結(jié)果圖為(3)(4) J'{69<`Dl
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