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    [技術(shù)]VirtualLab矩形組合光柵建模 [復制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2023-05-25
    ZZ.GpB.  
    建模目的:如何將矩形光柵界面和轉(zhuǎn)變點列界面(Transition Point List Inerface)進行組合,以構(gòu)建復雜結(jié)構(gòu)光柵,并進行近場分析和內(nèi)部場分析 *edB3!!  
    工具箱:光柵工具箱 }z}oVc  
    關(guān)鍵詞:矩形光柵界面 轉(zhuǎn)變點列界面 近場分析 內(nèi)部場分析 Uc.K6%iI  
    組合光柵結(jié)構(gòu)參數(shù)
    圖1:光柵參數(shù)示意圖 F;kNc:X`)  
    Nx~8]h1(  
    使用VirtualLab光柵工具箱進行建模 YI|7a#*F  
    (R{W Jjj  
    1) 操作如下圖(1)(2):解決方案(Solutions)/光柵工具箱(Grating Toolbox)/二維光柵仿真(2D Grating Simulations)/自定義光柵光路流程圖(General Grating Light Path Diagram),生成光柵光路圖, 如下圖(3)
    (1)
    XJ.vj+XXb  
    (2)
    $P>ci4]t  
    (3) ?,]25q   
    圖2:使用VirtualLab光柵工具箱進行建模步驟1)示意圖 JBp^@j{_  
    5MT$n4zKu  
    2) 雙擊 ,進入光柵編輯窗口(Edit General Grating 2D)/結(jié)構(gòu)與功能子窗口(Structure/Function),確定基板材料和厚度,并選擇堆棧界面。 (,[Oy6o  
    圖3:使用VirtualLab光柵工具箱進行建模步驟2)示意圖 'RXh E  
    MC^H N w  
    3) 進入堆棧界面,即堆棧編輯窗口(Edit),通過添加(Add)按鈕依次添加平面(Plane Interface),矩形光柵界面(Rectarngular Grating Interface)以及轉(zhuǎn)變點列界面(Transition Point List Interface)以構(gòu)建矩形組合光柵。 fs\l*nBig  
    (1)
    ,'[0tl}8K  
    (2) -|T.APxB  
    (3)
    圖4:使用VirtualLab光柵工具箱進行建模步驟3)示意圖 (z\@T`6`  
    tAefBFu  
    4) 點擊 ,進入矩形光柵編輯窗口(Edit Rectangular Grating Interface),輸入光柵一的結(jié)構(gòu)參數(shù),并將其位置橫向移動(Lateral Shift)1 µm,如下圖所示 Pr9$( 6MX  
    圖5:使用VirtualLab光柵工具箱進行建模步驟4)示意圖 6Wl+5 a6V  
    `|[Q]+Mx  
    5) 點擊 ,進入轉(zhuǎn)變點列界面(Transition Point List Interface)編輯窗口(Edit Transition Point List Interface),輸入光柵二和光柵三兩種光柵結(jié)構(gòu)參數(shù): Ng2qu!F7  
    VD,g  
    (1) 通過點擊添加數(shù)據(jù)(Add Datum)增加轉(zhuǎn)變點(transition points),并給該點對應的橫向位置(x-Position)和高度(Height)賦值,以形成所需轉(zhuǎn)變點序列。 (i1 ]+.  
    YRqIC -_  
    (2) 按照圖6(2)所示設(shè)置所有轉(zhuǎn)變點,然后將插值方法(Interpolation Method)設(shè)置為常量區(qū)間(Constant Interval)。將橫向區(qū)域上限(Upper Limit)設(shè)置為2 µm,并設(shè)置大小與形狀(Size and Shape) 為2 µm x 2µm 長方形(Rectangular)。 ckS.j)@.c  
    K08xiMjl  
    (3) 進入周期化標簽(Periodization),選擇使用周期化設(shè)置(Use Periodization),并將周期設(shè)置為2 µm x 2µm?捎^察到z-方向,即高度方向最小值(Boundary Minimum)為-800 nm。 rUR{MF&]D  
      
    (1) oIN!3  
    -r7*C :E  
    (2)
    (3)
    圖6:使用VirtualLab光柵工具箱進行建模步驟5)示意圖 #3leMZ6  
    QOB>Tv E  
    6) 將平面與矩形光柵界面距離設(shè)置為0,矩形光柵界面(光柵一)與轉(zhuǎn)變點列界面(光柵二和三)之間的距離設(shè)置為800 nm,并將堆棧周期(Stack Period)設(shè)置為2 µm,如下圖所示: 1ve %xF  
      
    圖7:使用VirtualLab光柵工具箱進行建模步驟6)示意圖 z1K@AaRx  
    1TJ2HO=Y  
    7) 設(shè)置光學界面后的介質(zhì)類型(Subsequent Medium),點擊,進入材料庫,分別將Cr和TiO2介質(zhì)分別用于矩形光柵界面(光柵一)和轉(zhuǎn)變點列光柵界面(光柵二和光柵三)之后,設(shè)置方法如下圖。 $C#G8Ck,  
    (1)
    _SY4Q s`d  
    (2)
    圖8:使用VirtualLab光柵工具箱進行建模步驟7)示意圖
    k?ZtRhPu3X  
    m r&nB  
    8) 在堆棧界面觀察組合光柵的剖面圖以及點擊觀察其3D視圖 },lHa!<^  
    (1)組合光柵剖面圖
    LB1LQ 0M  
    (2)組合光柵3D視圖
    圖9:使用VirtualLab光柵工具箱進行建模步驟8)示意圖
    D6fry\  
    4) 使用光柵工具箱中的元件內(nèi)部場分析器可以獲得光柵內(nèi)部場的分布。 J'jwRn  
    9) 傳輸子窗口(Propagation)/傳輸方法標簽(Propagation Methods)中選擇傅里葉模態(tài)法(Fourier Modal Method)作為元件傳輸方法(Component Propagation),光柵工具箱默認的傳輸方法是傅里葉模態(tài)法(FMM),對于特征尺寸遠大于波長的光柵,可以選擇薄元近似(TEA)。 Gm~jC <  
    F jsnFX;  
    圖10:使用VirtualLab光柵工具箱進行建模步驟9)示意圖 MOi.bHCQJP  
    10) 高級設(shè)置標簽(Advanced Settings),單擊 ,進行如圖11(1)-(3)設(shè)置,并觀察折射率分布如圖(4):可以看出組合光柵的形狀及折射率分布。 d0vn/k2I  
    z|E/pm$^  
    (1)
    t"4RGO)jh  
    (2)
    78T9"CS  
    (3)
    FxeDjAP  
    (4)
    圖11:使用VirtualLab光柵工具箱進行建模步驟10)示意圖
    I?r7dQEm  
    11) 進行近場分析: noJ5h |  
    QQ;<L"VW  
    (1)
    bis}zv^%v  
      
    (2)透射場振幅分布                (3)反射場振幅分布
    圖12:使用VirtualLab光柵工具箱進行建模步驟11)示意圖 >>22:JI`  
    12) 雙擊 ,進入光柵衍射效率分析器編輯窗口(Edit Grating Efficiency Analyzer),并做如下圖設(shè)置。 5n{J}0C  
    B)>r~v]  
    圖13:使用VirtualLab光柵工具箱進行建模步驟12)示意圖
    ++1<A& a  
    13) 點擊 ,進行光柵衍射效率分析,獲取各級次的效率以及總的效率,如下圖:(1)極坐標表示形式;(2)不同級次所對應的角度與衍射效率圖;(3)總的反射、透射效率以及吸收率。 RvrZtg5  
    u_ou,RF  
    O<}3\O )G(  
    (1)
    Vz_ac vfk^  
    (2)
    lOB*M!8   
    (3)
    圖14:使用VirtualLab光柵工具箱進行建模步驟13)示意圖 A@M%}h  
    14) 在光路流程圖(Light Path Diagram)中添加元件內(nèi)部場分析器(Field Inside Component Analyzer: FMM)進行內(nèi)部場分析:參數(shù)設(shè)置如圖15(1)(2),結(jié)果圖為(3)(4) J'{69<`Dl  
    q=Xd