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摘要 wG-X833\( I]zCsT. VirtualLab可以用于分析任意類型的光柵。由于在復雜光學設置中傾斜結構的光柵越來越重要,所以軟件中也加入了傾斜光柵的模型。傾斜光柵建模為特殊的光學介質(zhì),可以多樣化地定義其幾何形狀。此外,幾種高級規(guī)范選項也可以在軟件中實現(xiàn),例如添加完整和部分涂層。這個用例解釋了可用的配置選項,并討論了它們對光柵幾何形狀的影響。 +A/n<VH {E>kFeg
"tm2YUG},s 2#p6.4h= 介質(zhì)目錄中的傾斜光柵介質(zhì) XN??^1{J}] 3d
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5{j1<4zxR r"k\G\,% 可以在VirtualLab內(nèi)嵌的介質(zhì)目錄中找到內(nèi)置傾斜光柵介質(zhì)。 &i6WVNGy 可以使用它設置復雜的光學光柵結構(所謂的堆棧)并運用傅里葉模態(tài)法分析。 z$S)|6Q
iN=-N=
傾斜光柵介質(zhì)的編輯對話框 ,7<5dIdZ ;}1*M !
29}(l#S}m cgml^k\k^ 傾斜光柵介質(zhì)提供了很多選項去自定義周期性結構。 >P/.X^G0 首先,需要在基本參數(shù)標簽頁中定義光柵脊和谷的材料。 ax,%07hJ 這些材料既可從材料目錄中選取,也可通過折射率定義。 >f74]J=V ^!?W!k!:V 傾斜光柵介質(zhì)的編輯對話框 1VH7z *7`;{O
j<e`8ex? 11O^)_|c 在材料設置下方,可以定義光柵的幾何參數(shù)。 qfx= 有如下參數(shù)可選: 6[w_/X" ─ 占空比(相對于光柵的上面或者下面) <mi*AY ─ Z方向擴展(在z方向光柵的高度) vm
1vX; ─ 左傾斜角(光柵脊左側的傾斜角度) |3QKxS0 ─ 右傾斜角(光柵脊右側的傾斜角度) eM{,B 如果傾斜角度相同,可以通過點擊(不)等號關聯(lián)角度設定。 ~X)Aw3}F 'z>|N{-xG 傾斜光柵介質(zhì)的編輯對話框 &O7]e3Ej Xu2:yf4No* 為了增加可配置的涂層,需要激活Apply Coating選項。 Y{6y.F*Q# 這樣,結構示意圖中就出現(xiàn)了附加選項。 Gdb6 U{ lN-vFna
{p=`"H> Wz;7 |UC 傾斜光柵介質(zhì)的編輯對話框 'QeCJ5p] sWa`-gc 首先,選擇涂層的材料。 {ZrIA+eH 同樣的,可以從材料目錄中選擇或通過折射率定義材料。 4'Potv@/ 然后,可以單獨設置涂層每個側面、上面、下面的厚度,如示意圖所示。 j.=VZ
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