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摘要 1j(, VW 0^^i=iE-u 在干涉儀中，條紋的對(duì)比度可能取決于光源的相干特性。例如，在具有一定帶寬的光源的邁克爾遜干涉儀中，干涉條紋對(duì)比度隨光程差的不同而變化。通過測(cè)量可動(dòng)鏡不同位置的干涉圖對(duì)比度，可以得到光源的相干長(zhǎng)度。典型的傅里葉變換光譜通常基于這種類型的光路。 3~'F^=T.Y Z2
4 m  "yk%/: G+ [?2mt`g 建模任務(wù) Q 0q$ZK6C o~ed0>D-LS  9NAlgET gd*?kXpt 橫向干涉條紋——50 nm帶寬 :gC2zv X'<xw
 [5-5tipvWp '@P[fS Q 橫向干涉條紋——100 nm帶寬 <NO~TBH F 03T.Owd 
`Ea3z~<7M nm.d.A/]Z 逐點(diǎn)測(cè)量 cCs:z
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 N0f}q1S<-A wr(?L7
$+ VirtualLab概覽 kzu=-@s
"AVc^ >  2 )YLs5>W%
b :00w[" VirtualLab Fusion的工作流程 mLS Ai2Y • 設(shè)置入射高斯場(chǎng) 3-5lO#&# - 基本光源模型 w93,N+es6 • 設(shè)置元件的位置和方向 kLP^q+$u)! - LPD II：位置和方向 z7o5 9& • 設(shè)置元件的非序列通道 G 2##M8:U0 - 用于非序列追跡的通道設(shè)置 &X P 0 2NM} u\%c/
 5ZLH=8L B=7L+6 VirtualLab技術(shù) .67W\p nYH k~<a
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