摘要
}a[]I%bu2 |Vqm1.1/Zv 干涉測(cè)量法是
光學(xué)計(jì)量學(xué)的重要技術(shù)。 它被廣泛用于例如,表面輪廓、缺陷、高
精度的
機(jī)械和熱變形。 作為一個(gè)典型示例,在VirtualLab Fusion中借助非
序列場(chǎng)追跡,構(gòu)建了具有相干
激光光源的Mach Zehnder干涉儀。 證明了
光學(xué)元件的傾斜和移位如何影響干涉條紋圖案。
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it U ->vk{v 建模任務(wù)
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DJgM>&Y6, t2{(ETV 元件傾斜引起的干涉條紋
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eA2*}"W ?m2FN<S 元件移動(dòng)引起的干涉條紋
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@xBb|/I )e PQxx 走進(jìn)VirtulLab Fusion
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