11月28日，上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司公開了其最新的光刻機(jī)相關(guān)專利。 NV?x<LNWd  
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據(jù)天眼查顯示，上海微電子公開的專利名為“投影物鏡光學(xué)系統(tǒng)及光刻機(jī)”。申請日期是2022年5月19日，公布日期是​2023年11月28日。 <w}^Z}fpk&  
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該專利摘要顯示，本發(fā)明提供了一種投影物鏡光學(xué)系統(tǒng)及光刻機(jī)，所述投影物鏡光學(xué)系統(tǒng)沿其光軸方向從物面到像面依次包括：第一透鏡組、第二透鏡組、光闌、第三透鏡組與第四透鏡組。 其中，所述第三透鏡組與所述第二透鏡組關(guān)于所述光闌對稱，所述第四透鏡組與所述第一透鏡組關(guān)于所述光闌對稱，所述投影物鏡光學(xué)系統(tǒng)是對稱結(jié)構(gòu)，且所述投影物鏡光學(xué)系統(tǒng)中所有的透鏡組均具有正光焦度，以此可以在提高成像質(zhì)量的基礎(chǔ)上，增大曝光系統(tǒng)的視場尺寸，提升產(chǎn)率。 h1(i
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