長鑫存儲“光罩圖形的修正方法及系統(tǒng)、光罩及其制備方法"專利公布
據(jù)國家知識產(chǎn)權局公告,長鑫存儲技術有限公司申請一項名為“光罩圖形的修正方法及系統(tǒng)、光罩及其制備方法”,公開號CN117250823A,申請日期為2022年6月。
專利摘要顯示,本公開涉及一種光罩圖形的修正方法,包括:獲取光罩圖形模板中所有光罩圖形的光罩數(shù)據(jù),光罩圖形模板中包括若干個初始正圖形和初始反圖形;根據(jù)光罩數(shù)據(jù),識別出需要進行光學校正的初始反圖形;對需要進行光學校正的初始反圖形進行光學校正,獲得校正后的反圖形;在校正后的反圖形中形成亞分辨率輔助圖形,并對校正后的反圖形的邊緣進行平整化處理。上述光罩圖形的修正方法,在對初始反圖形進行光學校正后,增加了對其邊緣的平整化處理,解決了反圖形在光學校正后與鄰近圖形之間形成狹縫的問題,并且,通過在反圖形中形成亞分辨率輔助圖形,可以增大光刻工藝窗口,提高成像對比度。 |