據(jù)國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局公告，長鑫存儲(chǔ)技術(shù)有限公司申請(qǐng)一項(xiàng)名為“光罩圖形的修正方法及系統(tǒng)、光罩及其制備方法”，公開號(hào)CN117250823A，申請(qǐng)日期為2022年6月。 6DWgl$[[  
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專利摘要顯示，本公開涉及一種光罩圖形的修正方法，包括：獲取光罩圖形模板中所有光罩圖形的光罩?jǐn)?shù)據(jù)，光罩圖形模板中包括若干個(gè)初始正圖形和初始反圖形；根據(jù)光罩?jǐn)?shù)據(jù)，識(shí)別出需要進(jìn)行光學(xué)校正的初始反圖形；對(duì)需要進(jìn)行光學(xué)校正的初始反圖形進(jìn)行光學(xué)校正，獲得校正后的反圖形；在校正后的反圖形中形成亞分辨率輔助圖形，并對(duì)校正后的反圖形的邊緣進(jìn)行平整化處理。上述光罩圖形的修正方法，在對(duì)初始反圖形進(jìn)行光學(xué)校正后，增加了對(duì)其邊緣的平整化處理，解決了反圖形在光學(xué)校正后與鄰近圖形之間形成狹縫的問題，并且，通過在反圖形中形成亞分辨率輔助圖形，可以增大光刻工藝窗口，提高成像對(duì)比度。