1. 摘要
A!([k}@=j ]9xuLJ) 隨著
光學(xué)投影系統(tǒng)和
激光材料加工單元等現(xiàn)代技術(shù)的發(fā)展，對(duì)光學(xué)
器件的專(zhuān)業(yè)化要求越來(lái)越高。
透鏡陣列',this.id)" style="cursor:pointer;border-bottom: 1px solid #FA891B;" id="rlt_1">微透鏡
陣列正是這些領(lǐng)域中一種常用元件。為了充分了解這些元件的光學(xué)特性，有必要對(duì)微透鏡陣列后各個(gè)位置的光傳播進(jìn)行
模擬。在這個(gè)應(yīng)用案例中，我們將分別研究元件后近場(chǎng)、焦區(qū)以及遠(yuǎn)場(chǎng)特性。
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