1. 摘要 apv"s+  
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隨著光學(xué)投影系統(tǒng)和激光材料加工單元等現(xiàn)代技術(shù)的發(fā)展，對光學(xué)器件的專業(yè)化要求越來越高。透鏡陣列',this.id)" style="cursor:pointer;border-bottom: 1px solid #FA891B;" id="rlt_1">微透鏡陣列正是這些領(lǐng)域中一種常用元件。為了充分了解這些元件的光學(xué)特性，有必要對微透鏡陣列后各個(gè)位置的光傳播進(jìn)行模擬。在這個(gè)應(yīng)用案例中，我們將分別研究元件后近場、焦區(qū)以及遠(yuǎn)場特性。 BaOPtBYA:  
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2. 系統(tǒng)配置 uAv'%/  
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3. 系統(tǒng)建模模塊-組件 gbN@EJ  
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4. 總結(jié)—組件…… *sq+ Vc(  
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仿真結(jié)果 YveNsn  
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1. 場追跡結(jié)果—近場 Gkz~xQy1T  
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2. 場追跡結(jié)果—焦平面 CUa`#  
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3. 場追跡結(jié)果—遠(yuǎn)場 =\)qUs\z  
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寫的真好！