1. 摘要
>,.\`.0 OepQ Z|2 隨著
光學投影系統(tǒng)和
激光材料加工單元等現(xiàn)代技術的發(fā)展,對光學
器件的專業(yè)化要求越來越高。
透鏡陣列',this.id)" style="cursor:pointer;border-bottom: 1px solid #FA891B;" id="rlt_1">微透鏡
陣列正是這些領域中一種常用元件。為了充分了解這些元件的光學特性,有必要對微透鏡陣列后各個位置的光傳播進行
模擬。在這個應用案例中,我們將分別研究元件后近場、焦區(qū)以及遠場特性。
fZ(k"*\MZ 7Y)i>[u3 U] P{~ i|0!yID0@ 2. 系統(tǒng)配置
vuZ'Wo:S{ Kpkpr`:)] ~R\ $Z \O]kf>nC 3. 系統(tǒng)建模模塊-組件
ixL[(*V J\FLIw4 dGUiMix{N 4b+_|kYb 4. 總結—組件……
*to#ZMR;! ZENblh8fs WpOH1[8v \TLfLqA 仿真結果
a]J>2A@-I 4&%E?_M 1. 場追跡結果—近場
EN__C$ #%pY,AK:= h*Mt{A&'.& cYvt!M\ed 2. 場追跡結果—焦平面