據(jù)國家知識產(chǎn)權(quán)局公告，福建福晶科技股份有限公司取得一項名為“一種表面超高損傷閾值的拋光加工裝置及方法”，授權(quán)公告號CN114789378B，申請日期為2022年5月。

專利摘要顯示，一種表面超高損傷閾值的拋光加工裝置及方法，該方法在于，將玻璃工件粘結(jié)在粘結(jié)盤上，選用納米級磁流變拋光液作為磨料懸浮液，以一定的壓力注入拋光容器主體中，在玻璃工件與微孔結(jié)構(gòu)拋光模之間存在液膜，驅(qū)動粘結(jié)盤使得懸浮在納米級磁流變拋光液的玻璃工件以一定速率進行旋轉(zhuǎn)，同時，利用垂直方向的磁場驅(qū)動拋光液進行緩慢蠕動，使得玻璃工件在長時間內(nèi)進行切向蠕動摩擦以進行拋光。本發(fā)明將機械拋光與磁流變拋光相互結(jié)合，經(jīng)過長時間的切向蠕動摩擦拋光，達到去除光學(xué)亞表面損傷的目的，拋光模采用微孔結(jié)構(gòu)的聚氨酯或者絨布，并進一步在拋光模的表面沿著磁場方向開橫線陣列槽，方便拋光液在磁場的作用下，沿磁場方向定向運動。

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