ZEMAX非序列仿真楊氏干涉現(xiàn)象時(shí)，ZEMAX 05怎么設(shè)置參數(shù)，倆縫源透過的光也難以相遇，看了看沒覺著哪里參數(shù)設(shè)置不對(duì)，哪位高手有時(shí)間幫著看看是否有疏忽的位置，望及時(shí)指教。注：點(diǎn)源后邊設(shè)置加了個(gè)散射體，也觀察不到干涉現(xiàn)象。注：已解決。 u$zRm(!RB  
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可以參考一下這個(gè)例子https://support.zemax.com/hc/zh-cn/articles/1500005574882-%E5%9C%A8OpticStudio%E4%B8%AD%E9%80%9A%E8%BF%87%E5%87%A0%E4%BD%95%E5%85%89%E7%BA%BF%E8%BF%BD%E8%BF%B9%E6%9D%A5%E6%A8%A1%E6%8B%9F%E6%9D%A8%E6%B0%8F%E5%8F%8C%E7%BC%9D%E5%B9%B2%E6%B6%89%E5%AE%9E%E9%AA%8C X)Tyxppf'  

swy312:可以參考一下這個(gè)例子https://support.zemax.com/hc/zh-cn/articles/1500005574882-%E5%9C%A8OpticStudio%E4%B8%AD%E9%80%9A%E8%BF%87%E5%87%A0%E4%BD%95%E5%85%89%E7%BA%BF%E8%BF%BD%E8%BF%B9%E6%9D%A5%E6%A8%A1%E6%8B%9F%E6%9D%A8%E6%B0%8F%E5%8F%8C%E7%BC%9D%E5%B9%B2%E6%B6%89 .. (2024-05-24 15:12)  nTs\zikP  

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感謝提醒，資料指導(dǎo)的很詳細(xì)，但點(diǎn)源后邊加散射參數(shù)可以理解，子波源后邊為啥也加散射參數(shù)呢？點(diǎn)源后邊加了散射參數(shù)，雙孔屏透射的光束應(yīng)該已有散射特性了。

swy312:可以參考一下這個(gè)例子https://support.zemax.com/hc/zh-cn/articles/1500005574882-%E5%9C%A8OpticStudio%E4%B8%AD%E9%80%9A%E8%BF%87%E5%87%A0%E4%BD%95%E5%85%89%E7%BA%BF%E8%BF%BD%E8%BF%B9%E6%9D%A5%E6%A8%A1%E6%8B%9F%E6%9D%A8%E6%B0%8F%E5%8F%8C%E7%BC%9D%E5%B9%B2%E6%B6%89 .. (2024-05-24 15:12)  &n83>Q  

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感謝提醒，資料指導(dǎo)的很詳細(xì)，但點(diǎn)源后邊加散射參數(shù)可以理解，子波源后邊為啥也加散射參數(shù)呢？點(diǎn)源后邊加了散射參數(shù)，雙孔屏透射的光束應(yīng)該已有散射特性了。注：子波源后邊加散射參數(shù)，即使散射參數(shù)相同，覺著子波源出射光束也已不一樣，散射方向應(yīng)該屬無(wú)規(guī)則情況。

感謝樓上邊提醒，資料指導(dǎo)的很詳細(xì)，但點(diǎn)源后邊加散射參數(shù)可以理解，子波源后邊為啥也加散射參數(shù)呢？點(diǎn)源后邊加了散射參數(shù)，雙孔屏透射的光束應(yīng)該已有散射特性了。注：子波源后邊加散射參數(shù)，即使散射參數(shù)相同，覺著子波源出射光束也已不一樣，散射方向應(yīng)該屬無(wú)規(guī)則情況。

2樓兄弟啥時(shí)回了個(gè)帖呢？ 此帖詢問以后，持續(xù)關(guān)注了兩三天時(shí)間，未見哪位答復(fù)。 \9:IL9~F  
怎么現(xiàn)在看看發(fā)帖第二天有了個(gè)指導(dǎo)帖。 N\hHu6  
注：還是非常感謝及時(shí)提供詳細(xì)指導(dǎo)帖。 uH)v\Js  
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swy312: fGDjX!3-S  

K<D=QweOon  
1. 根據(jù)資料修改了zemax 模型，還是只看到兩個(gè)縫，未出現(xiàn)干涉。 !" 7ip9a  
2. 又根據(jù)網(wǎng)絡(luò)鏈接中的資料仿真，參數(shù)未修改，只是用“點(diǎn)源+散射參數(shù)”代替“線源+源孔屏+散射參數(shù)”，未出現(xiàn)干涉現(xiàn)象。 |),3`*N  
即S為點(diǎn)源，后邊設(shè)置散射體，S1與S2為孔屏子波源。 J~1=?</  
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qiushui:
1. 根據(jù)資料修改了zemax 模型，還是只看到兩個(gè)縫，未出現(xiàn)干涉。 lYt|C^  
2. 又根據(jù)網(wǎng)絡(luò)鏈接中的資料仿真，參數(shù)未修改，只是用“點(diǎn)源+散射參數(shù)”代替“線源+源孔屏+散射參數(shù)”，未出現(xiàn)干涉現(xiàn)象。 BLskUrPF  
即S為點(diǎn)源，后邊設(shè)置散射體，S1與S2為孔屏子波源。
.......
+8\1.vY  

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圖片:屏幕截圖 2024-05-28 164639.png

選擇相干照度

swy312:[圖片]選擇相干照度 (2024-05-28 16:48)  rX-V0  

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確認(rèn) 探 測(cè) 器 參數(shù)設(shè)置無(wú)誤呢。

swy312: <$
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圖片:right data.jpg

感謝提醒，已修改正確。1. 探測(cè)器參數(shù)設(shè)置，增強(qiáng)對(duì)比度選擇了100%，原來(lái)理解為(直觀理解好像也應(yīng)如此)此值越大對(duì)比度越好。因?yàn)榈竭_(dá)觀察屏的能量感覺弱了點(diǎn)，所以特意設(shè)置了此選項(xiàng)。2. 參考資料中也有個(gè)參數(shù)出現(xiàn)誤設(shè)置。3. 參考資料第三個(gè)物體"pinhole plane"是啥作用?如果是源s，不應(yīng)與s1、s2出現(xiàn)在同個(gè)平面，看設(shè)置情況好像非父物體或參考物體設(shè)置，也不是擋光作用的光闌設(shè)置。 syEWc(5