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    [技術(shù)]馬赫-曾德爾干涉儀 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2024-09-19
    摘要 !&9(D^  
     Fj]06~u  
    干涉測量是一種光學(xué)計量的重要技術(shù)。 它被廣泛應(yīng)用于表面輪廓，缺陷，機械和高精度熱變形等領(lǐng)域的測量。 作為一個典型的例程，在非序列場追跡的幫助下，我們在VirtualLab Fusion中建立了具有相干激光源的馬赫-曾德爾干涉儀，本案例清楚地展示了光學(xué)元件的傾斜和移位對干涉條紋圖案的影響。 CS~_>bn  
    ml<tH2Qx3C  
    建模任務(wù) +`_0tM1  
    X-(4/T+v  
    8-Y*b89  
    元件傾斜引起的干涉條紋 `$ S&:Q,  
    qz{9ND| )  
    f&mi nBU  
    元件移位引起的干涉條紋