近日，據(jù)國家知識產(chǎn)權(quán)局信息顯示，微瀾光學(xué)（蘇州）有限公司申請一項名為“一種具有光學(xué)間隔層的成像薄膜制備方法”的專利，公開號 CN 118746868 A，申請日期為2024年8月。

專利摘要顯示，本申請揭示一種具有光學(xué)間隔層的成像薄膜制備方法，包括：準備一光學(xué)間隔層，其中，所述光學(xué)間隔層至少包括一輔助層，且所述輔助層能阻止380nm以下光波長的光線透過；在所述光學(xué)間隔層的兩個相對表面分別設(shè)置第一光學(xué)層以及第二光學(xué)層；使用I線光波長的光線對第一光學(xué)層以及第二光學(xué)層進行曝光；對曝光后的第一光學(xué)層以及第二光學(xué)層進行后處理，使得所述第一光學(xué)層形成聚焦層，所述第二光學(xué)層形成圖文層。本申請將承載體設(shè)置為具有阻止波長在380nm以下的光線通過，或在承載體上設(shè)置輔助層達到上述效果，這樣可以在光學(xué)間隔的兩側(cè)同時進行曝光，其中一側(cè)的光不影響另一側(cè)光學(xué)層，這樣只需對光學(xué)間隔層兩側(cè)掩膜版對位，這樣在生產(chǎn)過程中對位的誤差極小。

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