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    [技術]光學相干斷層掃描的上皮散射自發(fā)熒光強度校正——一個模型的研究 [復制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2024-11-13
    本文以實驗結合光學軟件FRED來驗證熒光介質上覆蓋散射層的影響,結合AF-OCT系統(tǒng)能夠減少由于上皮組織增厚引起的假陽性,增強AF疾病檢測的功效。 V:bV ?lt  
    e,A)U5X  
    摘要 y,+[$u7h  
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    在本文中,我們通過模擬組織的自發(fā)熒光(AF)特性進行了模型的研究。我們組合了光學相干斷層掃描(OCT)和AF成像系統(tǒng),依據(jù)散射層的厚度和濃度來測量AF信號的強度。使用由生成的OCT圖像計算得到的厚度和散射濃度,結合AF-OCT系統(tǒng)能夠估計由上皮組織散射引起的AF損耗。我們定義了一個校正因子來計算上皮組織中的散射損耗,并且計算了一個校正散射AF信號。我們認為校正散射AF將會減少在早期呼吸道病變檢測中的診斷誤檢率,誤檢是由混合因子產生,如增加的皮層厚度和炎癥。 ! d9AG|  
    G%TL/Z40  
    關鍵詞:光學相干斷層掃描;自發(fā)熒光;光散射;模型;光線光學;OCT A-line數(shù)據(jù) GO5