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摘要 cx1U6 A+
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?Ka[_* gt';_ 干涉測(cè)量法是一項(xiàng)用于光學(xué)測(cè)量的重要技術(shù)。它被廣泛應(yīng)用于表面輪廓、缺陷、機(jī)械和熱變形的高精度測(cè)量。作為一個(gè)典型示例，在非序列場(chǎng)追跡技術(shù)的幫助下，于 VirtualLab Fusion中建立了具有相干激光源的馬赫-澤德干涉儀。該例證明了光學(xué)元件的傾斜和位移對(duì)干涉條紋圖的影響。 fP&F$"o8
vD[@cm 建模任務(wù) Ys+Dw-
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 {5#P1jlT ^G~W}z?- 由于組件傾斜引起的干涉條紋 0u'4kF!P!
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