銷售美國TRANSEMNE公司各種蝕刻劑，光刻膠等 a@+n  
1) ITO蝕刻劑（/養(yǎng)化錫/銦養(yǎng)化錫蝕刻劑 TE-100） !Miw.UmPm  
2) 鉻蝕刻劑 Chromium Etchants abAX)R'  
3) 鉻金屬蝕刻劑TFE（Chromium Cermet Etchant TFE） 9*`(*>S  
ITO蝕刻劑（/養(yǎng)化錫/銦養(yǎng)化錫蝕刻劑 TE-100） x$p_mWC  
氧化錫/銦氧化錫蝕刻劑TE-100 是應(yīng)用于微電子行業(yè)的氧化錫/銦氧化錫層的選擇性蝕刻劑，可高效的對陶瓷，絕緣層，半導(dǎo)體和多種金屬底層上的氧化錫/銦氧化錫沉淀膜進(jìn)行蝕刻，具有邊界清晰，蝕刻速度可控的特性，與正負(fù)性光刻膠良好兼容。TE-100 不可用于含鎳，銅，鎳锘合金和鋁的材質(zhì)。 YS$42J_T  
特性： _p<]
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外觀--深琥珀色 MLVrL r t  
蝕刻率（室溫25°C）--15-20 ? / sec（浸沒） 6yU#;|6d  
工作溫度--40-50 °C 9UbD=}W  
漂洗--去離子水 @ ={Hx$zL  
存儲--20-25 °C xcf`i
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有效期--一年（15-25 °C） xhq-$"B  
鉻蝕刻劑Chromium Etchants 5SOl:{A+  
1020 and 1020AC p>9-Ga  
Transene的1020和1020AC鉻蝕刻劑是一種高純度可精確清潔蝕刻鉻或氧化鉻薄膜的硝酸銨鈰產(chǎn)品，1020AC是不含硝酸的低速蝕刻劑，兩種產(chǎn)品均可配合正負(fù)性光刻膠使用，1020 為滲入型，最小蝕刻尺寸達(dá)到0.2微米，1020AC可完成微細(xì)凹槽蝕刻，使用后用去離子水清洗即可 )H HBf<  
特性 R#