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現(xiàn)代光學(xué)薄膜技術(shù)(作者:唐晉發(fā),顧培夫等)

發(fā)布:cyqdesign 2010-01-06 15:14 閱讀:27857
《現(xiàn)代光學(xué)薄膜技術(shù)》第一篇主要介紹光學(xué)薄膜特征的理論計算、光學(xué)多層膜的設(shè)計理論和技術(shù),由唐晉發(fā)教授編寫。第二篇主人介紹光一膜的制造技術(shù),包括以物理氣相淀積技術(shù)為代表的成膜技術(shù),涵蓋真空設(shè)備、薄膜材料、制備參數(shù)控制技術(shù)、薄膜厚度監(jiān)控技術(shù)、膜厚均勻性以及制備參數(shù)對薄膜微觀結(jié)構(gòu)影響等。第三篇主要介紹薄膜光學(xué)特性與光學(xué)常數(shù)的檢測技術(shù)、薄膜機(jī)械性能的評價技術(shù)等。由于光學(xué)薄膜技術(shù)又是一門交叉性很強的學(xué)科,涉及到光電技術(shù)、計算機(jī)、真空技術(shù)、材料科學(xué)、自動控制技術(shù)等領(lǐng)域。 bfeTf66c  
光學(xué)薄膜是一門綜合性非常強的工程技術(shù)科學(xué)。它的理論基礎(chǔ)是電磁場理論和麥克斯韋方程,涉及光在傳播過程中,通過分層介質(zhì)的反射、透射和偏振特性等。 **P P