真空鍍膜技術(shù),作者:張以忱
《真空鍍膜技術(shù)》共分10章,系統(tǒng)地闡述了真空鍍膜技術(shù)的基本慨念和基礎(chǔ)理論、各種薄膜制備技術(shù)、設(shè)備及工藝、真空卷繞鍍膜技術(shù)、ITO導電玻璃真空鍍膜工藝,尤其重點介紹了一些近年來新出現(xiàn)的鍍膜方法與技術(shù),如反應(yīng)磁控濺射鍍膜技術(shù)、中頻磁控濺射鍍膜和非平衡磁控濺射鍍膜技術(shù)等;還詳細介紹了薄膜沉積及膜厚的監(jiān)控與測量以及表面與薄膜分析檢測技術(shù)等方面的內(nèi)容。 《真空鍍膜技術(shù)》具有很強的實用性,適合于真空鍍膜行業(yè)、薄膜與表面應(yīng)用、材料工程、應(yīng)用物理以及與真空鍍膜技術(shù)有關(guān)的行業(yè)從事研究、設(shè)計、設(shè)備生產(chǎn)操作與維護的技術(shù)人員,也適用與真空鍍膜技術(shù)相關(guān)的實驗研究人員和學生,還可用作大專院校相關(guān)專業(yè)師生的教材及參考書。 |