CDNY-03AM 光學膜層厚度測量控制儀 cj11S>D  
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CDNY-03AM是專為光學鍍膜設(shè)計的新一代光學膜層厚度測量控制儀。本儀器由于采用窄帶頻率技術(shù)，因而對信號諧波和直流漂移具有極強的抑制能力。 (EPsTox  
主要性能指標及技術(shù)指標 q2HYiH^L  
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主信號通道： >u9Nz0?j  
信號輸入方式：單端交流輸入 gGfoO[B  
輸入量程：0.5mV-500mV hsu{ey