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2011年光學(xué)學(xué)術(shù)年會將與第十三屆中國國際光電博覽會同期同地舉行，空前盛況邀您一同參與 展會名稱：第十三屆中國國際光電博覽會（CIOE 2011） 專業(yè)指數(shù)：★★★★★ 展出時間：2011年9月6 - 9日（周二到周五） 展出地點：深圳會展中心全館 展出面積：10萬平米 來自中國國際光電博覽會（CIOE）組委會的最新消息，經(jīng)中國光學(xué)學(xué)會常務(wù)理事會決定，2011年中國光學(xué)學(xué)會學(xué)術(shù)年會將于2011年9月5日至8日與第十三屆中國國際光電博覽會（CIOE2011）在深圳會展中心同期舉行。 本屆會議由中國光學(xué)學(xué)會主辦，中國國際光電博覽會、深圳大學(xué)和深圳市光學(xué)學(xué)會聯(lián)合承辦，中國國際光電高峰論壇（CIOEC）協(xié)辦�！豆鈱W(xué)學(xué)報》、《中國激光》、《中國光電》等9家光學(xué)領(lǐng)域的專業(yè)性期刊全程參與報道大會盛況。 中國光學(xué)學(xué)會學(xué)術(shù)年會被認為是業(yè)界最頂級、規(guī)模最大的學(xué)術(shù)大會，每兩年舉行一次， 2011年中國光學(xué)學(xué)會學(xué)術(shù)年會將設(shè)立20個專題分會場，涵蓋光學(xué)及光學(xué)工程領(lǐng)域近100個子專題研究方向；參會人員將包括大學(xué)、央企、科研院所、軍工單位、企事業(yè)單位等從事光學(xué)及光學(xué)工程領(lǐng)域的專家、科研人員、生產(chǎn)人員、研究生、博士生及企業(yè)管理人員和商業(yè)人士等。 會議將同期舉行院士、專家與企業(yè)研發(fā)、管理人員參加的高峰論壇、企業(yè)發(fā)展懇談會等，為企業(yè)創(chuàng)新能力的提高及發(fā)展空間的拓展提供專家的咨詢及建議。 本屆會議與深圳光博會同期同地舉行，意在構(gòu)筑產(chǎn)、學(xué)、研三位一體的多層次、多視角、多渠道的交流平臺，促進光學(xué)與光學(xué)工程領(lǐng)域的科技創(chuàng)新和成果轉(zhuǎn)化。 會議將出版論文摘要集光盤版。提交會議的稿件將由中國光學(xué)學(xué)會指定的編委會審定，并根據(jù)論文質(zhì)量擇優(yōu)收錄到指定期刊中發(fā)表。 會議將組織與會人員赴香港進行參觀訪問，具體組織事宜另行公布。請關(guān)注中國光學(xué)學(xué)會網(wǎng)站和中國國際光電博覽會官方網(wǎng)站即時更新的相關(guān)信息。 關(guān)于中國光學(xué)學(xué)會（COS） |
