1. 背景知識 C-(&zwj?!  
光學(xué)薄膜泛指在器件表面用物理化學(xué)等方法沉積，利用光的干涉現(xiàn)象以實現(xiàn)增透、高反射、濾光、分光等光學(xué)現(xiàn)象。例如采用減反射膜后可使復(fù)雜的光學(xué)鏡頭的光通量損失成十倍地減小；采用高反射比的反射鏡可使激光器的輸出功率成倍提高；利用光學(xué)薄膜可提高太陽能電池的效率和穩(wěn)定性。 bvoR?D\-"  
2. 設(shè)備能力 #>0nNR[$Y  
OTFC-900型自動高精度光學(xué)薄膜鍍膜機是一種通用型的高檔光學(xué)鍍膜設(shè)備，適用從于從紫外到紅外各種光學(xué)玻璃和晶體上鍍制減反射膜,高反射膜,分光膜和濾光膜及其它多層光學(xué)薄膜。 8ydOS  
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1） 真空室尺寸：直徑900毫米，高度約1300毫米 Vrnx#j-U  
2） 排氣性能 B>R6j}rh'k  
粗抽真空：從大氣壓到50Pa真空，8分鐘以內(nèi) YRK4l\_`  
極限真空：低于5.0E-5Pa　 o,29C7Ii  
恢復(fù)真空：15分鐘之內(nèi)達(dá)到8.0E-4Pa Co'dZd(  
漏氣速率：低于5.0E-3Pa・L/sec wDsEx!\#  
3） 基板加熱特性 xd*kNY  
最大設(shè)定溫度: 350℃ TY?Fs-  
加熱40分鐘以內(nèi)，能到達(dá)300℃ P63f0F-G  
溫度均勻性: 300℃±10℃(加熱40分鐘后) H]SnM'Y  
4） 電子槍/電源(JEOL制) L"IdD5`7T  
電子槍（BS-60050EBS）： z=!xN5  
(10kW，270°偏轉(zhuǎn)) NEX\+dtE~0  
電壓 -4～-10kV(連續(xù)可變) v8LKv`I's  
5） 坩堝 mF "ctxE  
環(huán)形坩堝：φ302×φ228×H15mm環(huán)狀、材質(zhì)Cu 6`4=!ZfI  
15點坩堝：外徑尺寸φ35×H17mm、材質(zhì)Cu 7y:J@fh<  
6） 離子源 K\uR=L7  
離子流密度分布均勻；利用離子源進行基片清潔和輔助鍍膜時，基片表面質(zhì)量無損傷 }%%| '8  
a) 射頻離子源：（Optorun制：OIS-Four,10cm） 4YKb~1qkk  
柵網(wǎng)尺寸：10cm *b> ~L  
最大射頻功率：600W（13.56MHz） lO:[^l?F  
束電圧：100V～1500V Mq$e5&/  
最大束電流：500mA =|H/[",gg  
離子流密度分布：±10%以內(nèi) y0Ag px  
加速電壓：100V～1000V =x=#Etj|  
標(biāo)準(zhǔn)導(dǎo)入氣體量：氧氣或氬氣 mp}ZHuf