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    [求助]Zemax 設(shè)計求助 [復(fù)制鏈接]

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    離線saa0125
     
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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2013-09-04
    針對機構(gòu)進行光線追跡的模擬,但是使用非序列設(shè)計時利用poly object 功能進行機構(gòu)的繪製。 WD5J2EePT  
    在輸入各面的資訊時均將所需反射或穿透的地方進行設(shè)定,但是光源放上去跑出來卻是原來應(yīng)該反射的地方?jīng)]有反射 ly[yn{  
    希望穿透的地方卻發(fā)生反射 ~J\qkQ  
    請教各位大大是不是在poly object 編輯設(shè)定上有問題 Vr2A7kq  
    qbyYNlXqm  
    EX: R 1 2 3 4 0 (我設(shè)定反射面是這樣設(shè)定,假設(shè)點1 2 3 4 構(gòu)成平面並使用參數(shù)0進行反射) ^\}MG!l  
       T  5 6 7 8 0 (我設(shè)定穿透面是這樣設(shè)定,假設(shè)點5 6 7 8  構(gòu)成平面並使用參數(shù)0進行穿透) 0/HFLz'  
    $dM_uSt  
    請各對大大協(xié)助解決問題~~感激不盡 FJ_JaIby  
    0C zQel)L:  
    附件模擬的圖形資料~未標(biāo)註的面均為穿透面~ x`E<]z*w}  
    }s,NM%oI  
     
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    離線mang2004
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    只看該作者 1樓 發(fā)表于: 2013-09-05
    樓主沒有附件讓大家debug,那就泛泛而談吧:1=反射, 0=穿透,老弟! s|%R