針對機構(gòu)進行光線追跡的模擬，但是使用非序列設計時利用poly object 功能進行機構(gòu)的繪製。 w v9s{I{P  
在輸入各面的資訊時均將所需反射或穿透的地方進行設定，但是光源放上去跑出來卻是原來應該反射的地方?jīng)]有反射 :v1'(A1t  
希望穿透的地方卻發(fā)生反射 J U}XSb  
請教各位大大是不是在poly object 編輯設定上有問題 JWlH(-U4|  
>`'#4!}G5j  
EX: R 1 2 3 4 0 (我設定反射面是這樣設定，假設點1 2 3 4 構(gòu)成平面並使用參數(shù)0進行反射) %jqBYn0q'  
　  T  5 6 7 8 0 (我設定穿透面是這樣設定，假設點5 6 7 8  構(gòu)成平面並使用參數(shù)0進行穿透) X[h=UlF  
:}UWy?F  
請各對大大協(xié)助解決問題~~感激不盡 5(u7b  
QbxjfW"/+  
附件模擬的圖形資料~未標註的面均為穿透面~ X
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圖片:1.JPG

樓主沒有附件讓大家debug，那就泛泛而談吧：1=反射, 0=穿透，老弟！ wb"Jj